半导体湿法
半导体湿法蚀刻:涂胶显影设备、清洗系统
1、(DIW)超纯水加热系统
去离子水(DIW)加热系统,所有与液体接触的表面均采用超纯 PVDF/PFA 材料
与液体接触的所有表面均采用超纯 PVDF/PFA 材料 通过 PLC 温度*控制技术、
提供稳定、*的温度输出
功率范围从 40KW 到 225KW。
半导体湿法蚀刻:涂胶显影设备、清洗系统
1、(DIW)超纯水加热系统
去离子水(DIW)加热系统,所有与液体接触的表面均采用超纯 PVDF/PFA 材料
与液体接触的所有表面均采用超纯 PVDF/PFA 材料 通过 PLC 温度*控制技术、
提供稳定、*的温度输出
功率范围从 40KW 到 225KW。